1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 物理
发明

光掩模坯料、光掩模的制造方法以及光掩模

2023-06-11 12:43:37 发布于四川 4
  • 申请专利号：CN202011339150.7
  • 公开（公告）日：2024-06-21
  • 公开（公告）号：CN112925163A
  • 申请人：信越化学工业株式会社
摘要：发明涉及的光掩模板包括：基板；被加工膜；以及由含有铬的材料构成的膜，该膜从远离基板的一侧起具有第1层、第2层、第3层以及第4层。第1层的铬含有率为40原子％以下(含)，氧含有率为38原子％以上(含)，氮含有率为22原子％以下(含)，且厚度为6nm以下(含)。第2层的铬含有率为38原子％以下(含)，氧含有率为30原子％以上(含)，氮含有量为18原子％以下(含)，碳为14原子％以下(含)，且膜厚为22nm以上(含)且32nm以下(含)。第3层的铬含有率为50原子％以下(含)，氧含有率为30原子％以下(含)，氮含有量为20原子％以上(含)，且膜厚为6nm以下(含)。第4层的铬含有率为44原子％以下(含)，氧含有率为20原子％以上(含)，氮含有量为20原子％以下(含)，碳为16原子％以下(含)，且膜厚为13nm以上(含)。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112925163 A (43)申请公布日 2021.06.08 (21)申请号 202011339150.7 G03F 1/62 (2012.01) G03F 1/68 (2012.01) (22)申请日 2020.11.25 G03F 1/80 (2012.01) (30)优先权数据 H01L 21/027 (2006.01) 2019-220060 2019.12.05 JP H01L 21/033 (2006.01) (71)申请人 信越化学工业株式会社 地址 日本国东京都千代田区大手町二丁目 6番1号 (72)发明人 松桥直树　 (74)专利代理机构 上海德昭知识产权代理有限 公司 31204 代理人 郁旦蓉 (51)Int.Cl. G03F 1/22 (2012.01) G03F 1/50 (2012.01) G03F 1/54 (2012.01) 权利要求书3页 说明书21页 附图8页 (54)发明名称 光掩模坯料、光掩模的制造方

最新专利

相关专利