发明

一种扇形谐振腔聚焦声波的微滴喷射装置

2023-08-25 07:34:58 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310765538.0
  • 公开(公告)日:2025-08-01
  • 公开(公告)号:CN116619908A
  • 申请人:厦门理工学院
摘要:本发明公开了一种扇形谐振腔聚焦声波的微滴喷射装置,包括超声波发生装置、供液装置、喷嘴、基底及谐振腔组件,该谐振腔组件包括谐振腔、声波进入通道和孔径;该谐振腔至少设有两层扇形腔室,每层扇形腔室至少与一个所述声波进入通道相连通,该声波进入通道为与所述扇形腔室同轴心的弧形,该扇形腔室与所述弧形声波进入通道的半径均为声波波长的整数倍,且该声波进入通道的入口正对超声波发生器的声波发射端;各所述扇形腔室的圆心处相互连通形成所述的孔径;所述喷嘴设置在所述孔径内。本发明的多层扇形谐振腔结构,声波正面进入通道,并能够形成多阶的FP共振,声波聚焦效果更佳,使喷嘴处的声泳力增大,缩小喷射液滴直径。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116619908 A (43)申请公布日 2023.08.22 (21)申请号 202310765538.0 (22)申请日 2023.06.26 (71)申请人 厦门理工学院 地址 361024 福建省厦门市集美区理工路 600号 (72)发明人 舒霞云 唐毅泉 钟智东 常雪峰  (74)专利代理机构 泉州市潭思专利代理事务所 (普通合伙) 35221 专利代理师 麻艳 (51)Int.Cl. B41J 2/14 (2006.01) B41J 25/00 (2006.01) B41J 25/304 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图7页 (54)发明名称 一种扇形谐振腔聚焦声波的微滴喷射装置 (57)摘要 本发明公开了一种扇形谐振腔聚焦声波的 微滴喷射装置,包括超声波发生装置、供液装置、 喷嘴、基底及谐振腔组件,该谐振腔组件包括谐 振腔、声波进入通道和孔径;该谐振腔至少设有 两层扇形腔室,每层扇形腔室至少与一个所述声 波进入通道相连通,该声波进入通道为与所述扇 形腔室同轴心的弧形,该扇形腔室与所述弧形声 波进入通道的半径均为声波波长的整数倍,且该 声波进入通道的入口正对超声波发生器的声波 发射端;各所述扇形腔室的圆心处相互连通形成 所述的孔径;所述喷嘴设置在所述孔径内。本发 明的多层扇形谐振腔结构,声波正面进入通道, A 并能够形成多阶的FP共振,声波聚焦效果更佳, 8 使

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