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发明

控制晶体特定取向的3D打印方法、控制系统及其设备2023

2023-09-24 08:25:47 发布于四川 5
  • 申请专利号：CN202310613608.0
  • 公开（公告）日：2023-09-22
  • 公开（公告）号：CN116786842A
  • 申请人：云耀深维（江苏）科技有限公司
摘要：本发明提供了控制晶体特定取向的3D打印方法、控制系统及其设备，通过在激光扫描路径中设置点曝光区域，以将激光扫描路径划分为道次扫描区域以及点曝光区域；控制激光束在道次扫描区域对应的各层材料上进行于x‑y平面的连续道次扫描以构建零件主体；控制激光束在点曝光区域对应的各层材料上进行持续曝光以在点曝光区域形成沿z轴生长的柱状晶体。通过设置单独曝光区域，来阻断传统道次扫描过程中晶粒在x‑y平面的取向生长，从而实现改变晶粒的生长方式，在零件内部特定区域设置有利于其强度提高的微观组织。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116786842 A (43)申请公布日 2023.09.22 (21)申请号 202310613608.0 B33Y 10/00 (2015.01) B33Y 30/00 (2015.01) (22)申请日 2023.05.29 B33Y 40/00 (2020.01) (71)申请人 云耀深维（江苏）科技有限公司 B33Y 50/02 (2015.01) 地址 215400 江苏省苏州市太仓市城厢镇 陈门泾路101号5#厂房 (72)发明人 请求不公布姓名　 (74)专利代理机构 苏州知派知识产权代理事务 所(普通合伙) 32768 专利代理师 葛传勇 (51)Int.Cl. B22F 10/28 (2021.01) B22F 10/366 (2021.01) B22F 10/85 (2021.01) B22F 12/00 (2021.01) B22F 12/90 (2021.01) 权利要求书2页 说明书12页 附图12页 (54)发明名称 控制晶体特定取向的3D打印方法、控制系统 及其设备 (5

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