一种空气桥的制备方法及一种超导量子器件

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115700217 A (43)申请公布日 2023.02.07 (21)申请号 202110823371.X (22)申请日 2021.07.21 (71)申请人 合肥本源量子计算科技有限责任公 司 地址 230088 安徽省合肥市合肥市高新区 创新大道2800号创新产业园二期E2楼 六层 (72)发明人 杨晖　李坤锋　王念慈　张亮　 王晨　 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 3/00 (2006.01) H10N 60/82 (2023.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图3页 (54)发明名称 一种空气桥的制备方法及一种超导量子器 件 (57)摘要 本申请公开了一种空气桥的制备方法，属于 量子信息领域，尤其是量子计算技术领域。所述 方法包括：提供形成有外延层的衬底，所述外延 层包括分隔的第一子层和第二子层；形成桥支撑 层于所述第一子层和所述第二子层之间；形成金 属层于所述衬底在所述桥支撑层一侧的表面，所 述金属层包括覆盖所述桥支撑层且连接所述第 一子层和所述第二子层的空气桥；形成抗蚀层覆 盖所述空气桥；依次利用第一刻蚀液和第二刻蚀 液刻蚀去除裸露的所述金属层，且所述第二刻蚀 液的浓度小于所述第一刻蚀液的浓度；去除所述 A 抗蚀层和所述桥支撑层获得所述空气桥。本方案 7 能够制备出将分隔的第一子层和第二子层连接 1 2 0 的空气桥，