实用新型

一种阀门低泄漏密封结构

2023-03-19 08:32:15 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202320190496.8
  • 公开(公告)日:2023-03-17
  • 公开(公告)号:CN218644927U
  • 申请人:西安泵阀总厂有限公司
摘要:本申请公开了一种阀门低泄漏密封结构,该结构的阀盖在阀杆的周向设置有环形结构的填料腔;填料腔内从上至下依次设置有双角度填料组、活塞环、以及反唇组件;双角度填料组包括从上至下依次设置的上填料、多个中填料、以及下填料;中填料的截面为开口向下的C字形结构;反唇组件包括反唇膜片和膜片压环;反唇膜片设置于填料腔的底部,反唇膜片包括相连接的反唇部和固定部,反唇部远离固定部的一侧和阀杆抵接;膜片压环设置于反唇膜片和活塞环之间,膜片压环的一侧与固定部的上表面抵接,膜片压环的另一侧设置有用于容纳反唇部的腔体。本申请解决了现有技术中的密封结构的密封性不够好,而导致介质泄漏挥发的问题。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218644927 U (45)授权公告日 2023.03.17 (21)申请号 202320190496.8 (22)申请日 2023.02.13 (73)专利权人 西安泵阀总厂有限公司 地址 710000 陕西省西安市灞桥区西安现 代纺织产业园灞柳二路1369号 (72)发明人 李靖 程佳 李建佩 赵龙龙  张鹏珍 张二冰  (51)Int.Cl. F16K 41/02 (2006.01) F16K 41/06 (2006.01) F16K 27/08 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 附图2页 (54)实用新型名称 一种阀门低泄漏密封结构 (57)摘要 本申请公开了一种阀门低泄漏密封结构,该 结构的阀盖在阀杆的周向设置有环形结构的填 料腔;填料腔内从上至下依次设置有双角度填料 组、活塞环、以及反唇组件;双角度填料组包括从 上至下依次设置的上填料、多个中填料、以及下 填料;中填料的截面为开口向下的C字形结构;反 唇组件包括反唇膜片和膜片压环;反唇膜片设置 于填料腔的底部,反唇膜片包括相连接的反唇部 和固定部,反唇部远离固定部的一侧和阀杆抵 接;膜片压环设置于反唇膜片和活塞环之间,膜 片压环的一侧与固定部的上表面抵接,膜片压环 的另一侧设置有用于容纳反唇部的腔体。本申请 U 解决了现有技术中的密封结构的密封性不够好, 7 而导致介质泄漏挥发的问题。 2 9 4 4 6 8 1 2 N C CN

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