一种小间隙金属纳米腔结构、制备方法及设备

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113200512 A (43)申请公布日 2021.08.03 (21)申请号 202110219788.5 B82Y 40/00 (2011.01) (22)申请日 2021.02.26 (71)申请人 西湖大学 地址 310024 浙江省杭州市西湖区转塘街 道石龙山街18号 (72)发明人 耿娇　石理平　刘东立　方啸国　 张磊　唐妮　仇旻　 (74)专利代理机构 杭州知闲专利代理事务所 (特殊普通合伙) 33315 代理人 黄燕 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01) G02B 5/00 (2006.01) B82Y 15/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图2页 (54)发明名称 一种小间隙金属纳米腔结构、制备方法及设 备 (57)摘要 本发明公开了一种小间隙金属纳米腔结构 的制造方法，包括：对粘附在衬底上的金属纳米 结构对进行激光照射，使得金属纳米结构熔化， 形成球体或半球体结构对，然后固化，最终得到 所述小间隙金属纳米腔结构。本发明同时公开了 一种由上述方法得到的小间隙金属纳米腔结构。 同时公开了能够实施上述方法的设备。本发明利 用纳秒脉冲激光将金属纳米结构加热至熔点，使 金属纳米结构发生高温熔化。激光脉