用于磁光陷阱预冷却的漫反射装置和激光冷却方法

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 115831429 A (43)申请公布日 2023.03.21 (21)申请号 202211369283.8 (22)申请日 2022.11.03 (71)申请人 中国科学院上海光学精密机械研究 所 地址 201800 上海市嘉定区清河路390号 (72)发明人 张孝　刘亮　孙远　张启旺　王鑫　 王文丽　 (74)专利代理机构 上海恒慧知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31317 专利代理师 张宁展 (51)Int.Cl. G21K 1/00 (2006.01) H01S 3/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 用于磁光陷阱预冷却的漫反射装置和激光 冷却方法 (57)摘要 一种用于磁光陷阱预冷却的漫反射装置和 激光冷却方法，装置使用了一个特殊构型的石英 真空腔，真空腔表面具有高漫反射率的涂层，涂 层上开了对应的小孔，激光通过光纤由小孔入射 到真空腔内，经涂层漫反射在腔内形成各向同性 冷却光场。真空腔外有一对反亥姆霍兹线圈，与 冷却激光形成磁光陷阱，通过时序控制实现漫反 射冷却作为磁光陷阱的前级冷却。本发明可以提 高漫反射冷却得到的原子的光学厚度，提高磁光 陷阱囚禁与冷却原子的装载率，同时为研究新的 冷却方式提供了思路。 A 9 2 4 1 3 8 5 1 1 N C CN 115831429 A