高性能纳米材料陶瓷薄膜器件的制造工艺

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116621587 A (43)申请公布日 2023.08.22 (21)申请号 202310640068.5 (22)申请日 2023.06.01 (71)申请人 昆明理工大学 地址 650000 云南省昆明市盘龙区昆明理 工大学新迎校区 (72)发明人 赵国荣　李永坤　郑富昭　李飞　 杨振民　 (74)专利代理机构 北京精翰专利代理有限公司 11921 专利代理师 齐强军 (51)Int.Cl. C04B 35/622 (2006.01) C04B 35/111 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 高性能纳米材料陶瓷薄膜器件的制造工艺 (57)摘要 本发明公开了高性能纳米材料陶瓷薄膜器 件的制造工艺，属于纳米陶瓷材料技术领域，包 括以下步骤：S1、制备纳米材料：通过氧化铝与溶 液反应制作氧化铝溶液；S2、制备陶瓷薄膜：将氧 化铝溶液和靶材融合制备陶瓷薄膜；S3、烧结处 理：将陶瓷薄膜进行烧结处理 ；S4、处理加工：将 烧结后的陶瓷薄膜进行表面处理并进行测试，最 后制成指定物品。在本发明一个或多个实施例 中，选用粒径在10‑60nm的氧化铝颗粒 ，本发明 中，通过采用颗粒具有较高的比表面积和较小的 颗粒尺寸的氧化铝颗粒制作基底，可以提高基地 的致密性和均匀性，从而提高陶瓷薄膜的质量和 A 性能，同时，氧化铝与乙醇混合可以保证基地的 7 纯度和稳