双面超表面结构的制备方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112408316 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202011314162.4 (22)申请日 2020.11.20 (71)申请人 中国科学院上海微系统与信息技术 研究所 地址 200050 上海市长宁区长宁路865号 (72)发明人 李伟　王磊　周易　甘峰源　 杨雪雷　 (74)专利代理机构 上海光华专利事务所(普通 合伙) 31219 代理人 贺妮妮 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) G03F 9/00 (2006.01) 权利要求书3页 说明书8页 附图6页 (54)发明名称 双面超表面结构的制备方法 (57)摘要 本发明提供一种双面超表面结构的制备方 法，包括：提供呈镜像关系标记的第一光刻板及 第二光刻板，且标记具有正反对准、正反偏移误 差测量及下一工艺步骤对准的功能；提供衬底， 并将呈镜像关系标记的图形分别转移至衬底两 面，得到第一衬底样品；筛选出偏移误差在需求 范围内的第一衬底样品，得到合格的第一衬底样 品；将合格的第一衬底样品放入下一步骤所用光 刻设备中，识别合格的第一衬底样品上具有下一 工艺步骤对准功能的标记，并将双面超表面结构 图形版图分别转移至合格的第一衬底样品的正 反两面，得到第二衬底样品并刻蚀得到双面超表 A 面结构。采用本方法能够成功制作出高精度对准 6 的双面超表面结构，从而提高双