一种电容薄膜真空计及其制备方法2023
- 申请专利号:CN202310819607.1
- 公开(公告)日:2023-09-29
- 公开(公告)号:CN116818181A
- 申请人:山东大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116818181 A (43)申请公布日 2023.09.29 (21)申请号 202310819607.1 (22)申请日 2023.07.06 (71)申请人 山东大学 地址 266200 山东省青岛市即墨区滨海路 72号 (72)发明人 林玉哲 陶继方 陈公贤 (74)专利代理机构 青岛华慧泽专利代理事务所 (普通合伙) 37247 专利代理师 刘娜 (51)Int.Cl. G01L 21/00 (2006.01) G01L 9/12 (2006.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 (54)发明名称 一种电容薄膜真空计及其制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种电容薄膜真空计及其制 备方法,该真空计包括上壳体、下壳体和位于两 者之间的感压膜片,所述感压膜片和下壳体为金 属材质,感压膜片和下壳体焊接在一起形成了检 测腔,所述下壳体底部焊接有连接管,通过连接 管连接检测腔和待测真空腔体;所述上壳体由绝 缘材料制成,所述上壳体粘接于感压膜片或下壳 体上,所述上壳体与感压膜片之间形成参考腔; 所述上壳体的顶部内壁镀有固定电极,所述固定 电极通过引出电极将电容变化信号引出至参考 腔外部,所述上壳体上设置抽气口和吸气剂,所 述参考腔为真空状态。本发明所公开的电容薄膜 A 真空计在保证电容式薄膜真空计耐腐蚀、高精度 1 的特性下,使电容式薄膜真空计的结构以及制备 8 1 8 方法大为简化。 1
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