光学邻近校正（OPC）方法以及使用OPC方法制造掩模的方法

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112462570 A (43)申请公布日 2021.03.09 (21)申请号 202010818384.3 (22)申请日 2020.08.14 (30)优先权数据 10-2019-0110788 2019.09.06 KR (71)申请人 三星电子株式会社 地址 韩国京畿道 (72)发明人 吕尚哲　崔南柯　 (74)专利代理机构 北京天昊联合知识产权代理 有限公司 11112 代理人 赵南　张青 (51)Int.Cl. G03F 1/36 (2012.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书3页 说明书11页 附图14页 (54)发明名称 光学邻近校正（OPC）方法以及使用OPC方法 制造掩模的方法 (57)摘要 一种光学邻近校正方法包括：提取掩模上的 图案的布局的边缘，边缘包括该布局的作为曲线 边缘的至少一个边缘；以及通过对所提取的布局 的边缘应用边缘滤镜来生成图案的光学图像，该 边缘滤镜包括与曲线边缘的角度对应的任意角 度滤镜。可使用源扇区旋转来生成任意角度滤镜 以与曲线边缘的角度对应。 A 0 7 5 2 6 4 2 1 1 N C CN 112462570 A 权　利　要　求　书 1/3 页 1.一种光学邻近校正方法，包括步骤： 提取掩模上的图案的布局的边