一种乙酸对叔丁基环己酯生产用清洁装置及其方法2025
- 申请专利号:CN202310990824.7
- 公开(公告)日:2025-06-17
- 公开(公告)号:CN116900011A
- 申请人:东营科宏化工有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116900011 A (43)申请公布日 2023.10.20 (21)申请号 202310990824.7 (22)申请日 2023.08.08 (71)申请人 东营科宏化工有限公司 地址 257200 山东省东营市东营港经济开 发区港北一路17号 (72)发明人 徐冲 王修春 王冰 国道山 (74)专利代理机构 南京灿烂知识产权代理有限 公司 32356 专利代理师 朱妃 (51)Int.Cl. B08B 9/42 (2006.01) B08B 9/38 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图6页 (54)发明名称 一种乙酸对叔丁基环己酯生产用清洁装置 及其方法 (57)摘要 本发明公开了一种乙酸对叔丁基环己酯生 产用清洁装置及其方法,涉及乙酸对叔丁基环己 酯生产技术领域,其技术方案要点包括底座,所 述底座上固定连接有侧板,所述侧板上移动连接 有输送带,所述输送带上固定连接有限位环;所 述支撑板固定连接在侧板上,所述支撑板上固定 连接有固定框,所述固定框内对称连接有移动 块,所述移动块上移动连接有夹紧块 ;所述载料 板移动连接在侧板的上方,所述载料板上转动连 接有转动杆,所述转动杆上固定连接有固定块, 所述固定块上移动连接有抹料板和清洁板,效果 A 是通过设置抹料板,便于对装料桶内侧壁附着的 1 乙酸对叔丁基环己酯进行刮料处理。 1 0 0 0 9 6 1 1 N
最新专利
- 一种半导体硅抛光片的去蜡清洗工艺公开日期:2025-06-20公开号:CN117862112A申请号:CN202410032589.7一种半导体硅抛光片的去蜡清洗工艺
- 发布时间:2024-04-16 07:23:230
- 申请号:CN202410032589.7
- 公开号:CN117862112A
- 一种玻璃清洗设备公开日期:2025-06-20公开号:CN117339954A申请号:CN202311409107.7一种玻璃清洗设备
- 发布时间:2024-01-08 07:17:170
- 申请号:CN202311409107.7
- 公开号:CN117339954A
- 超声波清洗机及其带摇动装置的抛动机构公开日期:2025-06-20公开号:CN116851350A申请号:CN202310798595.9超声波清洗机及其带摇动装置的抛动机构
- 发布时间:2023-10-13 07:17:380
- 申请号:CN202310798595.9
- 公开号:CN116851350A
- 气动系统公开日期:2025-06-20公开号:CN116677921A申请号:CN202310702372.8气动系统
- 发布时间:2023-09-04 07:11:500
- 申请号:CN202310702372.8
- 公开号:CN116677921A
- 一种聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件清洗方法公开日期:2025-06-20公开号:CN116371810A申请号:CN202310366743.X一种聚合物前驱体陶瓷3D打印复杂结构件清洗方法
- 发布时间:2023-07-06 10:32:520
- 申请号:CN202310366743.X
- 公开号:CN116371810A
- 一种露天矿车载扬尘捕集装置公开日期:2025-06-20公开号:CN116237331A申请号:CN202211550140.7一种露天矿车载扬尘捕集装置
- 发布时间:2023-06-11 13:09:130
- 申请号:CN202211550140.7
- 公开号:CN116237331A