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一种微结构的制备方法2024

2024-04-21 07:45:33 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202311769319.6
  • 公开(公告)日:2024-04-19
  • 公开(公告)号:CN117908323A
  • 申请人:珠海莫界科技有限公司
摘要:本发明公开一种微结构的制备方法,包括:提供一基底;N次在基底上点涂压印胶并匀胶,各次得到含有第N压印胶层的中间结构;使用模板对中间结构进行压印,制得所述微结构;N≥2,第N压印胶层的点涂位置与第N‑1压印胶层的点涂位置不完全相同,和/或第N压印胶层的点涂位置位于第N‑1压印胶层的点涂位置上;第N‑1次匀胶的最终转速大于第N次匀胶的最终转速。本发明采用在基底上多次点涂压印胶并匀胶的技术方案,通过调整匀胶的转速使相邻两次中前一次的匀胶速度大于相邻两次中后一次的匀胶速度,使得多个压印胶层叠加后在不同的位置具有不同的厚度,进而可以在压印后形成不同高度的微结构,减少压印胶的使用量,避免浪费,降低成本。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117908323 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202311769319.6 (22)申请日 2023.12.20 (71)申请人 珠海莫界科技有限公司 地址 519085 广东省珠海市高新区唐家湾 镇湾创路58号3层301-1 (72)发明人 邵陈荻 赵晋 邱晓斌  (74)专利代理机构 深圳市君胜知识产权代理事 务所(普通合伙) 44268 专利代理师 温宏梅 (51)Int.Cl. G03F 7/00 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01) G02B 6/136 (2006.01) G02B 6/124 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 附图6页 (54)发明名称 一种微结构的制备方法 (57)摘要 本发明公开一种微结构的制备方法,包括: 提供一基底;N次在基底上点涂压印胶并匀胶,各 次得到含有第N压印胶层的中间结构;使用模板 对中间结构进行压印,制得所述微结构;N≥2,第 N压印胶层的点涂位置与第N‑1压印胶层的点涂 位置不完全相同,和/或第N压印胶层的点涂位置 位于第N‑1压印胶层的点涂位置上;第N‑1次匀胶 的最终转速大于第N次匀胶的最终转速。本发明 采用在基底上多次点涂压印胶并匀胶的技术方 案,通过调整匀胶的转速使相邻两次中前一次的 匀胶速度大于相邻两次中后一次的匀胶速度,使 得多个压印胶层叠加后在不同的位置

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