实用新型

狭缝元件及装置2023

2023-12-08 07:21:17 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202320520779.4
  • 公开(公告)日:2023-12-01
  • 公开(公告)号:CN220116220U
  • 申请人:中山大学
摘要:本实用新型公开了一种狭缝元件及装置,狭缝元件包括条块,条块一面的两端分别设置有薄膜;两端并行,以两端为界,界左右两侧的面均为下倾斜面。本实用新型实施例筛选颗粒的尺度可达纳米级别;另外,采用独特的几何结构,可有效地避免颗粒在狭缝壁中粘附与沉积。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220116220 U (45)授权公告日 2023.12.01 (21)申请号 202320520779.4 (22)申请日 2023.03.17 (73)专利权人 中山大学 地址 510275 广东省广州市海珠区新港西 路135号 (72)发明人 韩永 张玉容 董理  (74)专利代理机构 广州市华学知识产权代理有 限公司 44245 专利代理师 李斌 (51)Int.Cl. B82B 1/00 (2006.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书3页 附图1页 (54)实用新型名称 狭缝元件及装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种狭缝元件及装置,狭 缝元件包括条块,条块一面的两端分别设置有薄 膜;两端并行,以两端为界,界左右两侧的面均为 下倾斜面。本实用新型实施例筛选颗粒的尺度可 达纳米级别;另外,采用独特的几何结构,可有效 地避免颗粒在狭缝壁中粘附与沉积。 U 0 2 2 6 1 1 0 2 2 N C CN 220116220 U 权 利 要 求 书 1/1页 1.一种狭缝元件,其特征在于,包括条块,条块一面的两端分别设置有薄膜;条块为硬 度材料;薄膜的厚度范围为1nm 100nm;两端并行,以两端为界,界左右两侧的面均为下倾斜~ 面。 2.根据权利要求1所述

最新专利