发明

单晶硅振膜的MEMS电容式声传感器结构及制备方法

2023-05-18 12:39:25 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202210525264.3
  • 公开(公告)日:2025-08-12
  • 公开(公告)号:CN114804008A
  • 申请人:中北大学
摘要:本发明为一种单晶硅振膜的MEMS电容式声传感器结构,属于超声换能器技术领域。本发明包括自上而下叠层设置的振膜层、环状支撑壁层和衬底层,振膜层形成有若干个呈阵列排布的振膜,振膜层和衬底层之间的环状支撑壁层上形成有若干个呈阵列排布的空腔,空腔与振膜相互对应;振膜上均布设置有若干通孔,衬底层的顶面上形成有延伸孔;振膜层、通孔、衬底层、延伸孔上均形成有绝缘层;振膜层上设置有上电极层,衬底层底面设置有下电极层。本发明电容式声传感器结构整体尺寸小,便于后续的封装和使用;本发明电容式声传感器结构制备方法简单,整体工艺流程少,制造成本低,便于后续的批量生产。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114804008 A (43)申请公布日 2022.07.29 (21)申请号 202210525264.3 G01H 11/06 (2006.01) (22)申请日 2022.05.15 (71)申请人 中北大学 地址 030051 山西省太原市尖草坪区学院 路3号 (72)发明人 王任鑫 张文栋 李照东 张国军  穆罕默德 ·伊尔马兹  埃汉 ·博兹库尔特 张赛 杨玉华  何常德 崔建功  (74)专利代理机构 太原倍智知识产权代理事务 所(普通合伙) 14111 专利代理师 张宏 (51)Int.Cl. B81B 7/02 (2006.01) B81C 1/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图3页 (54)发明名称 单晶硅振膜的MEMS电容式声传感器结构及 制备方法 (57)摘要 本发明为一种单晶硅振膜的MEMS电容式声 传感器结构,属于超声换能器技术领域。本发明 包括自上而下叠层设置的振膜层、环状支撑壁层 和衬底层,振膜层形成有若干个呈阵列排布的振 膜,振膜层和衬底层之间的环状支撑壁层上形成 有若干个呈阵列排布的空腔,空腔与振膜相互对 应;振膜上均布设置有若干通孔,衬底层的顶面 上形成有延伸孔;振膜层、通孔、衬底层、延伸孔 上均形成有绝缘层;振膜层上设置有上电极层,

最新专利