发明

半导体存储装置

2023-06-02 12:07:40 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202010106717.X
  • 公开(公告)日:2024-03-08
  • 公开(公告)号:CN112447203A
  • 申请人:铠侠股份有限公司
摘要:实施方式提供一种实现长寿命化的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:多条第1配线;多条第2配线,与多条第1配线交叉;及多个存储单元,设置在多条第1配线及多条第2配线之间,且具备电阻变化层、及含有硫属元素的非线性元件层。在置位动作中,向多条第1配线中的一条、及多条第2配线中的一条之间供给置位脉冲。在复位动作中,向多条第1配线中的一条、及多条第2配线中的一条之间供给复位脉冲。在第1动作中,向多条第1配线中的一条、及多条第2配线中的一条之间供给第1脉冲。第1脉冲具备比置位脉冲的振幅及复位脉冲的振幅中的较大脉冲的振幅大的振幅,或具备与较大脉冲的振幅相同的振幅及比复位脉冲的脉冲宽度大的脉冲宽度。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112447203 A (43)申请公布日 2021.03.05 (21)申请号 202010106717.X (22)申请日 2020.02.21 (30)优先权数据 2019-161925 2019.09.05 JP (71)申请人 铠侠股份有限公司 地址 日本东京 (72)发明人 塚本隆之  (74)专利代理机构 北京律盟知识产权代理有限 责任公司 11287 代理人 张世俊 (51)Int.Cl. G11C 5/06(2006.01) G11C 5/14(2006.01) G11C 7/10(2006.01) 权利要求书2页 说明书13页 附图18页 (54)发明名称 半导体存储装置 (57)摘要 实施方式提供一种实现长寿命化的半导体 存储装置。实施方式的半导体存储装置具备:多 条第1配线;多条第2配线,与多条第1配线交叉; 及多个存储单元,设置在多条第1配线及多条第2 配线之间,且具备电阻变化层、及含有硫属元素 的非线性元件层。在置位动作中,向多条第1配线 中的一条、及多条第2配线中的一条之间供给置 位脉冲。在复位动作中,向多条第1配线中的一 条、及多条第2配线中的一条之间供给复位脉冲。 在第1动作中,向多条第1配线中的一条、及多条 第2配线中的一条之间供给第1脉冲。第1脉冲具 备比置位脉冲的振幅及复位脉

最新专利