用于光源掩模优化的方法、设备和介质2024

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118092068 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410529554.4 (22)申请日 2024.04.28 (71)申请人 全芯智造技术有限公司 地址 230088 安徽省合肥市高新区创新大 道2800号创新产业园二期J2C栋13楼 (72)发明人 请求不公布姓名　 (74)专利代理机构 北京世辉律师事务所 16093 专利代理师 黄倩 (51)Int.Cl. G03F 1/70 (2012.01) G03F 7/20 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图4页 (54)发明名称 用于光源掩模优化的方法、设备和介质 (57)摘要 根据本公开的示例实施例提供了用于光源 掩模优化的方法、设备和介质。该方法包括：获取 包括多个掩模图形的掩模版图和光源的信息；通 过光刻仿真，生成利用掩模版图和光源在晶圆上 形成的多个晶圆图形，多个晶圆图形分别对应于 多个掩模图形；确定与多个晶圆图形的形成相关 联的成像成本；以及基于成像成本，通过改变多 个掩模图形中的至少一个掩模图形的目标尺寸， 确定光源的目标照明模式和掩模版图。以此方 式，无需对目标尺寸进行人工调整，提高了SMO的 处理效率。 A 8 6 0 2 9 0 8 1 1 N C CN 118092068 A 权　利　要　求　书 1/2页