发明

机加工工艺设计中的公差控制方法及产品检测方法

2023-07-23 17:28:04 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202310290126.6
  • 公开(公告)日:2025-05-02
  • 公开(公告)号:CN116460664A
  • 申请人:尹开甲
摘要:本发明公开了一种机加工艺设计中的公差控制方法及产品检测方法。其中,一种机加工艺设计中的公差控制方法,在设计产品与机械制图中,标注的公差要求a1、a3、δN;当第一、二定位基准各控制被加工要素的一个非恒定度方向上的位置时;当第二定位基准加工后,机床工作台不旋转直接加工被加工要素时;δN按照下面公式计算。本发明的有益效果为:本发明将“被测要素对第二定位基准上定位直线的几何关系公差”换算为“被测要素对整个第二定位基准的几何要求公差”,利用“被测要素对整个第二定位基准的几何要求公差”进行机械设计与工艺设计,第二定位基准已可以实现,提高了产品合格率。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116460664 A (43)申请公布日 2023.07.21 (21)申请号 202310290126.6 (22)申请日 2023.03.22 (71)申请人 尹开甲 地址 450004 河南省郑州市郑汴路49号院 (72)发明人 尹飞凰 尹开甲  (74)专利代理机构 郑州中原专利事务所有限公 司 41109 专利代理师 李想 胡世辉 (51)Int.Cl. B23Q 23/00 (2006.01) B23Q 17/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书7页 附图6页 (54)发明名称 机加工艺设计中的公差控制方法及产品检 测方法 (57)摘要 本发明公开了一种机加工艺设计中的公差 控制方法及产品检测方法。其中,一种机加工艺 设计中的公差控制方法,在设计产品与机械制图 中,标注的公差要求a 、a 、δ ;当第一、二定位基 1 3 N 准各控制被加工要素的一个非恒定度方向上的 位置时 ;当第二定位基准加工后,机床工作台不 旋转直接加工被加工要素时 ;δ 按照下面公式 N 计算。本发明的有益效果为:本发明将“被测要素 对第二定位基准上定位直线的几何关系公差”换 算为“被测要素对整个第二定位基准的几何要求 公差”,利用“被测要素对整个第二定位基准的几 A 何要求公差”进行机械设计与工艺设计,第二定 4 位基准已可以实现,提高