一种反射型原子气室制作方法及其光路结构2024

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117865057 A (43)申请公布日 2024.04.12 (21)申请号 202311260035.4 (22)申请日 2023.09.27 (71)申请人 浙江大学 地址 310000 浙江省杭州市西湖区余杭塘 路866号 申请人 浙江大学绍兴研究院　 绍兴市科技创业投资有限公司 (72)发明人 车录锋　李晨啸　 (74)专利代理机构 绍兴锋行知识产权代理事务 所(普通合伙) 33460 专利代理师 徐锋 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 7/02 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 一种反射型原子气室制作方法及其光路结 构 (57)摘要 本发明公开了一种反射型原子气室制作方 法及其光路结构，设计的气室结构属于双腔室结 构，在硅片中湿法腐蚀形成存储腔室和光学腔 室，两腔室之间由沟道连接，碱金属释放剂填充 入存储腔室中，通过与玻璃片阳极键合实现密 封，为提高反射率，在光学腔反射侧壁上溅射金 属。之后，基于该气室结构设计了一种光路结构， 激光器射出的激光由第一反射镜调整，射入探测 器的激光由第二反射镜调整，射入和射出气室的 激光由反射棱镜调整。与传统的透射型气室相 比，反射型气室极大地延长了光与原子相互作用 A 的距离，使其不受硅片厚度的限制，改善了原子 7 器件的灵敏度和稳定性。