发明

一种精细微纳米玻璃结构的加工方法

2023-07-05 07:12:13 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202111014187.7
  • 公开(公告)日:2024-07-19
  • 公开(公告)号:CN113788452A
  • 申请人:上海交通大学
摘要:本发明公开了一种精细微纳米玻璃结构的加工方法,包括如下步骤:准备玻璃基片,并进行清洗吹干;当掩膜材料为非光刻胶材料,将掩模薄膜沉积到玻璃基片上,再涂覆光刻胶;当掩膜材料为光刻胶材料,在玻璃基片上涂覆光刻胶;采用光刻的方式,将待加工的结构转移至基片表面的光刻胶上;当掩膜材料为非光刻胶材料,先对掩膜材料进行刻蚀,再对玻璃基片进行刻蚀;当掩膜材料为光刻胶材料,仅对玻璃基片进行刻蚀即可;利用干法刻蚀或湿法腐蚀的方法去除光刻胶及掩膜材料,形成最终的玻璃器件结构。采用本发明的制备工艺,可使得刻蚀玻璃速率达到了710nm/min,粗糙度降低到40nm以下,侧壁垂直度接近90°。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113788452 A (43)申请公布日 2021.12.14 (21)申请号 202111014187.7 (22)申请日 2021.08.31 (71)申请人 上海交通大学 地址 200240 上海市闵行区东川路800号 (72)发明人 权雪玲 程秀兰 刘民 付学成  瞿敏妮 黄胜利 凌天宇  (74)专利代理机构 上海段和段律师事务所 31334 代理人 李佳俊 郭国中 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) G03F 7/00 (2006.01) B82Y 30/00 (2011.01) B82Y 40/00 (2011.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图4页 (54)发明名称 一种精细微纳米玻璃结构的加工方法 (57)摘要 本发明公开了一种精细微纳米玻璃结构的 加工方法,包括如下步骤:准备玻璃基片,并进行 清洗吹干;当掩膜材料为非光刻胶材料,将掩模 薄膜沉积到玻璃基片上,再涂覆光刻胶;当掩膜 材料为光刻胶材料,在玻璃基片上涂覆光刻胶; 采用光刻的方式,将待加工的结构转移至基片表 面的光刻胶上;当掩膜材料为非光刻胶材料,先 对掩膜材料进行刻蚀,再对玻璃基片进行刻蚀; 当掩膜材料为光刻胶材料,仅对玻璃基片进行刻 蚀即可;利用干法刻蚀或湿法腐蚀的方法去除光 刻胶及掩膜材料,形成最终的玻璃器件结构。采 用本发明的制备工艺,可使得刻蚀玻璃速率达到

最新专利