一种高透过率的氧化铟铽钽钛钬靶材及其制备方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117209254 A (43)申请公布日 2023.12.12 (21)申请号 202311187603.2 (22)申请日 2023.09.14 (71)申请人 先导薄膜材料（广东）有限公司 地址 511500 广东省清远市高新区百嘉工 业园27-9号A区 (72)发明人 李开杰　邵学亮　顾德盛　张兴宇　 罗斯诗　 (74)专利代理机构 清远市诺誉知识产权代理事 务所(普通合伙) 44815 专利代理师 黄迅 (51)Int.Cl. C04B 35/01 (2006.01) C04B 35/622 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/08 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 (54)发明名称 一种高透过率的氧化铟铽钽钛钬靶材及其 制备方法 (57)摘要 本申请涉及靶材生产技术领域，公开了一种 高透过率的氧化铟铽钽钛钬靶材的制备方法，所 述方法具体为：采用质量比为94.8～96.2:0.1 ～ 0.5:1.0 ～1.3:2.0 ～2.5:0.7 ～0.9的氧化铟粉 末、氧化铽粉末、氧化钽粉末、氧化钛粉末和氧化 钬粉末制备成为靶材前驱体，然后进行有氧烧 结。该靶材的氧化铟控制在96 .5％以下，通过铽 钽钛钬的掺杂，可以提高透过率和降低电阻率。 同时，本发明还公开了该靶材。 A 4 5