实用新型

一种转印基板及激光转印装置2023

2023-10-01 07:39:34 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202321372158.2
  • 公开(公告)日:2023-09-29
  • 公开(公告)号:CN219769376U
  • 申请人:隆基绿能科技股份有限公司
摘要:本实用新型公开了一种转印基板及激光转印装置,涉及图案转印技术领域。用于在转印激光的波段大于等于0.9μm、且小于等于1.6μm的情况下,提高转印基板对转印激光的吸收率,进而提高转印效率,利于通过激光转印实现结构的量产。该转印基板应用于激光转印装置中,并且激光转印装置所采用的转印激光的波段大于等于0.9μm、且小于等于1.6μm。在此情况下,转印基板包括:透明转印部和光能吸收层。其中,透明转印部的一侧设置有沟槽图案。沟槽图案包括至少一个向透明转印部内凹入的沟槽。光能吸收层位于至少一个沟槽具有的沟槽表面上。光能吸收层对转印激光的吸收率大于20%。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 219769376 U (45)授权公告日 2023.09.29 (21)申请号 202321372158.2 (22)申请日 2023.05.31 (73)专利权人 隆基绿能科技股份有限公司 地址 710199 陕西省西安市长安区航天中 路388号 (72)发明人 黄帅 李广旭 刘德茂  (74)专利代理机构 北京知迪知识产权代理有限 公司 11628 专利代理师 梁佳美 (51)Int.Cl. B41F 16/00 (2006.01) H01L 31/18 (2006.01) H01L 31/0224 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图2页 (54)实用新型名称 一种转印基板及激光转印装置 (57)摘要 本实用新型公开了一种转印基板及激光转 印装置,涉及图案转印技术领域。用于在转印激 光的波段大于等于0.9μm、且小于等于1.6μm的 情况下,提高转印基板对转印激光的吸收率,进 而提高转印效率,利于通过激光转印实现结构的 量产。该转印基板应用于激光转印装置中,并且 激光转印装置所采用的转印激光的波段大于等 于0.9μm、且小于等于1.6μm。在此情况下,转印 基板包括:透明转印部和光能吸收层。其中,透明 转印部的一侧设置有沟槽图案。沟槽图案包括至 少一个向透明转印部内凹入的沟槽。光能吸收层 位于至少一个沟槽具有的沟槽表面上。光能吸收 U 层对转印激光的吸收率大于20%。 6

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