发明

一种碳化硅多孔陶瓷雾化芯制备方法2025

2023-12-17 07:38:28 发布于四川 4
  • 申请专利号:CN202311255266.6
  • 公开(公告)日:2025-06-10
  • 公开(公告)号:CN117209284A
  • 申请人:武汉利之达科技股份有限公司
摘要:本发明提供一种碳化硅多孔陶瓷雾化芯制备方法,通过本发明制备方法获得的碳化硅多孔陶瓷雾化芯在保持适当孔隙率的前提下,还能够保持较好的导油速率和吸油性能,不掉粉;并且制备方法环保,获得的雾化芯导热性能良好。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117209284 A (43)申请公布日 2023.12.12 (21)申请号 202311255266.6 (22)申请日 2023.09.27 (71)申请人 武汉利之达科技股份有限公司 地址 430074 湖北省武汉市东湖新技术开 发区武大园四路1号-1、2号国家地球 空间信息产业基地五期武大慧园2、3 栋2单元3层04室 (72)发明人 张树强 黄卫军 刘松坡  (74)专利代理机构 湖北高韬律师事务所 42240 专利代理师 张承接 (51)Int.Cl. C04B 35/565 (2006.01) C04B 35/622 (2006.01) C04B 38/00 (2006.01) A24F 40/70 (2020.01) 权利要求书1页 说明书10页 附图1页 (54)发明名称 一种碳化硅多孔陶瓷雾化芯制备方法 (57)摘要 本发明提供一种碳化硅多孔陶瓷雾化芯制 备方法,通过本发明制备方法获得的碳化硅多孔 陶瓷雾化芯在保持适当孔隙率的前提下,还能够 保持较好的导油速率和吸油性能,不掉粉;并且 制备方法环保,获得的雾化芯导热性能良好。 A 4 8 2 9 0 2 7 1 1 N C CN 117209284 A 权 利 要 求 书 1/1 页 1.

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