投影光学系统以及图像投影装置

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114509908 A (43)申请公布日 2022.05.17 (21)申请号 202011283757.8 (22)申请日 2020.11.17 (71)申请人 理光工业解决方案有限公司 地址 日本神奈川县横滨市 (72)发明人 宫健二　 (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 专利代理师 吕琳　朴秀玉 (51)Int.Cl. G03B 21/14 (2006.01) G03B 21/28 (2006.01) H04N 5/74 (2006.01) G02B 27/00 (2006.01) G02B 17/08 (2006.01) 权利要求书1页 说明书8页 附图19页 (54)发明名称 投影光学系统以及图像投影装置 (57)摘要 本发明提供一种能够抑制像差的产生，并且 能够小型且廉价地制造的投影光学系统以及包 括该投影光学系统的图像投影装置。本发明的投 影光学系统(10)用于对显示于图像显示元件 (11)中的图像进行放大并投影,其自缩小侧向放 大侧包括第一折射光学系统(13)、反射光学系统 (MR)、以及第二折射光学系统(15)，上述第一折 射光学系统(13)包括作为一枚共用透镜(L1)的 一侧的第一部分(L1B)，上述第二折射光学系统 (15)包括作为上述共用透镜(L1)的另一侧的第 二部分(L1A)。 A 8 0 9 9 0 5 4 1 1