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曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法2024

2024-04-21 07:51:32 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202410239514.6
  • 公开（公告）日：2024-04-19
  • 公开（公告）号：CN117908338A
  • 申请人：株式会社尼康
摘要：一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法，可防止已转印至第一区域与第二区域的图案的线宽或厚度的变化。曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器；投影光学系统；基板载台，使被曝光基板相对于投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，配置为相对于光学积分器可相对移动，将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者相对地变更，第二区域是被曝光基板上的第一曝光区域及第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，第一区域是第一曝光区域的其他部分及第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，以使第一区域中的曝光量相对于第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使照度变更构件移动。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117908338 A (43)申请公布日 2024.04.19 (21)申请号 202410239514.6 (51)Int.Cl . G03F 7/20 (2006.01) (22)申请日 2020.03.04 (30)优先权数据 2019-069148 2019.03.29 JP (62)分案原申请数据 202080014640.1 2020.03.04 (71)申请人 株式会社尼康 地址 日本东京港区港南二丁目15番3号(邮 递区号:108-6290) (72)发明人 吉田亮平　井田真高　吉田大辅　 野嶋琢己　松桥佑介　渡辺畅章　 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理 有限公司 11205 专利代理师 刘阳　刘芳 权利要求书6页 说明书19页 附图6页 (54)发明名称 曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 (57)摘要 一种曝光装置、照明光学系统以及元件制造 方法，可防止已转印至第一区域与第二区域的图 案的线宽或厚度的变化。曝光装置包括：照明光 学系统，具有光学积分器；投影光学系统；基板载 台，使被曝光基板相对于投影光学系统朝扫描方 向进行相对移动；照度变更构件，配置为相对于 光学积分器可相对移动，将对第二区域进行曝光

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