发明

一种淋釉器

2023-06-07 12:24:08 发布于四川 3
  • 申请专利号:CN202110048459.9
  • 公开(公告)日:2025-04-08
  • 公开(公告)号:CN112776147A
  • 申请人:佛山市珑华台科技开发有限公司
摘要:本发明公开了一种淋釉器,包括淋釉板和向所述淋釉板输送釉浆的上釉机构;其中,所述上釉机构包括与所述淋釉板对应设置的布釉辊和用于调节上釉量的计量辊和挡釉板,所述布釉辊和计量辊的两侧设有所述挡釉板,所述计量辊、布釉辊和挡釉板之间形成用于缓存釉浆的蓄釉池;所述蓄釉池内的釉浆通过粘附转动的布釉辊,移至所述淋釉板处。采用本发明,结构简单,釉浆不易发生沉淀,且淋釉量的控制精度高。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112776147 A (43)申请公布日 2021.05.11 (21)申请号 202110048459.9 (22)申请日 2021.01.14 (71)申请人 廖绍基 地址 528000 广东省佛山市南海区西樵北 江大堤二号 (72)发明人 廖绍基 黄彬成  (74)专利代理机构 广州三环专利商标代理有限 公司 44202 代理人 胡枫 周应勋 (51)Int.Cl. B28B 11/04 (2006.01) B28B 17/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图2页 (54)发明名称 一种淋釉器 (57)摘要 本发明公开了一种淋釉器,包括淋釉板和向 所述淋釉板输送釉浆的上釉机构;其中,所述上 釉机构包括与所述淋釉板对应设置的布釉辊和 用于调节上釉量的计量辊和挡釉板,所述布釉辊 和计量辊的两侧设有所述挡釉板,所述计量辊、 布釉辊和挡釉板之间形成用于缓存釉浆的蓄釉 池;所述蓄釉池内的釉浆通过粘附转动的布釉 辊,移至所述淋釉板处。采用本发明,结构简单, 釉浆不易发生沉淀,且淋釉量的控制精度高。 A 7 4 1 6 7 7 2 1 1 N C CN 112776147 A 权 利 要 求 书 1/1页 1.一种淋釉器,其特征在于,包括淋釉板和向所述淋釉板输送釉浆的上釉机

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