发明

一种光刻胶供给设备

2023-05-09 09:52:01 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210054957.9
  • 公开(公告)日:2024-09-06
  • 公开(公告)号:CN114355730A
  • 申请人:浙江光特科技有限公司
摘要:本发明公开了一种光刻胶供给设备,包括:一支架;一支撑件,呈锥形设置,设置于所述支架上;其上部内径大于下部内径;一压板,位于所述支撑件的上方,与所述支架可移动连接;一调节机构,用于调节所述压板与所述支撑件之间的间距;一箱体,布置于所述支撑件内,所述箱体上的开口向下布置;一柱塞,安装在所述箱体的开口中;一供气机构;一进气管,其第一端与所述供气机构连接,其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体内,并靠近所述箱体的底部。可以在支架上设置滑槽,可以在压板上设置滑块,滑块与滑槽滑动配合。调节机构可以为螺杆,与所述支架螺纹连接,并与所述压板转动连接,通过转动螺杆带动压板下降,压持住箱体的底部,将箱体固定。

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114355730 A (43)申请公布日 2022.04.15 (21)申请号 202210054957.9 (22)申请日 2022.01.18 (71)申请人 浙江光特科技有限公司 地址 312000 浙江省绍兴市越城区群贤路 与中兴大道东南角一楼107室 (72)发明人 万远涛 沈琪良 石峰  (74)专利代理机构 南京普睿益思知识产权代理 事务所(普通合伙) 32475 代理人 曹花 (51)Int.Cl. G03F 7/16 (2006.01) B05C 11/10 (2006.01) 权利要求书1页 说明书4页 附图6页 (54)发明名称 一种光刻胶供给设备 (57)摘要 本发明公开了一种光刻胶供给设备,包括: 一支架;一支撑件,呈锥形设置,设置于所述支架 上;其上部内径大于下部内径;一压板,位于所述 支撑件的上方,与所述支架可移动连接;一调节 机构,用于调节所述压板与所述支撑件之间的间 距;一箱体,布置于所述支撑件内,所述箱体上的 开口向下布置;一柱塞,安装在所述箱体的开口 中;一供气机构;一进气管,其第一端与所述供气 机构连接,其第二端穿过所述柱塞位于所述箱体 内,并靠近所述箱体的底部。可以在支架上设置 滑槽,可以在压板上设置滑块,滑块与滑槽滑动 配合。调节机构可以为螺杆,与所述支架螺纹连 A 接,并与所述压板转动连接,通过转动螺杆带动 0 压板下降,压持住箱体的底部,将箱体固定。

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