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发明

控制EUV光源中的碎片的装置和方法2024

2024-02-15 07:14:33 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202311529251.4
  • 公开（公告）日：2024-02-06
  • 公开（公告）号：CN117524536A
  • 申请人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种EUV系统，其中，建立了源控制回路以维持和优化碎片通量，同时不会过度影响最佳EUV生成条件。可以在容器中安装一个或多个温度传感器，例如热电偶，以测量相应局部气体温度。由所述一个或多个热电偶测量的相应局部温度可用作所述源控制回路的一个或多个输入。随后，所述源控制回路可以调整激光瞄准，以准许碎片的生成和沉积的优化，同时不影响EUV产生，由此延长源及其收集器的使用寿命。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117524536 A (43)申请公布日 2024.02.06 (21)申请号 202311529251.4 (51)Int.Cl . G21K 1/06 (2006.01) (22)申请日 2018.04.03 G03F 7/20 (2006.01) (30)优先权数据 H05G 2/00 (2006.01) 15/593,732 2017.05.12 US (62)分案原申请数据 201880031089.4 2018.04.03 (71)申请人 ASML荷兰有限公司 地址 荷兰维德霍温 (72)发明人 C ·W ·J ·贝伦德森　 I ·V ·福门科夫　A ·I ·厄肖夫　 J ·T ·斯特瓦特四世　 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 专利代理师 杨飞 权利要求书1页 说明书11页 附图4页 (54)发明名称 控制EUV光源中的碎片的装置和方法 (57)摘要 公开了一种EUV系统，其中，建立了源控制回 路以维持和优化碎片通量，同时

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