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PCT发明

固态纳米孔形成

2023-07-03 10:01:39 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202180059600.3
  • 公开（公告）日：2023-06-30
  • 公开（公告）号：CN116368095A
  • 申请人：牛津纳米孔科技公开有限公司
摘要：本发明涉及一种用于产生包括开孔的衬底的方法，所述方法包括：提供衬底，所述衬底包括固态膜和在所述固态膜的第一表面上的化学表面改性；以及通过所述化学表面改性和所述固态膜形成开孔。本发明还涉及包括化学表面膜和开孔的衬底、包括此类衬底的传感器和包括此类衬底的设备。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116368095 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202180059600.3 (74)专利代理机构 北京同立钧成知识产权代理 有限公司 11205 (22)申请日 2021.07.21 专利代理师 严罗一　刘芳 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 63/055,126 2020.07.22 US B82Y 15/00 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 2023.01.20 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/US2021/042562 2021.07.21 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2022/020461 EN 2022.01.27 (71)申请人 牛津纳米孔科技公开有限公司 地址 英国牛津 (72)发明人 谢平　 权利要求书6页 说明书41页 附图6页 (54)发明名称 固态纳米孔形成 (57)摘要 本发明涉及一种用于产生包括开孔的衬底 的方法，所述方法包括：提供衬

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