一种陶瓷研磨盘及其制备方法和应用2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117885034 A (43)申请公布日 2024.04.16 (21)申请号 202311839442.0 B28B 11/24 (2006.01) (22)申请日 2023.12.28 (71)申请人 福建晶安光电有限公司 地址 362411 福建省泉州市安溪县湖头镇 横山村光电产业园 (72)发明人 张佳浩　徐德勤　曾柏翔　李瑞评　 刘聪毅　陈铭欣　 (74)专利代理机构 厦门加减专利代理事务所 (普通合伙) 35234 专利代理师 杨泽奇 (51)Int.Cl. B24B 37/14 (2012.01) B24D 3/14 (2006.01) B24D 3/34 (2006.01) B24D 18/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书6页 (54)发明名称 一种陶瓷研磨盘及其制备方法和应用 (57)摘要 本发明涉及衬底加工制造技术领域，特别涉 及一种陶瓷研磨盘及其制备方法和应用。其中， 一种陶瓷研磨盘，以质量百分比计，原料包括 85％～95％的α ‑氧化铝、2％～6％的晶界粘结 剂、2.5％～8％的晶界强化剂及0.5％～1.5％的 纳米陶瓷粉体。通过采用特定比例的α ‑氧化铝 及与晶界粘结剂、晶界强化剂及纳米陶瓷粉体， 获得了高硬度、耐磨，同时不会产生金属污染的 陶瓷研磨盘，其加工出的衬底