一种耐刻蚀的正性光刻胶

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114326304 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202111644603.1 (22)申请日 2021.12.30 (71)申请人 苏州瑞红电子化学品有限公司 地址 215000 江苏省苏州市吴中区吴中经 济开发区民丰路501号 (72)发明人 陈韦帆　郑祥飞　俞灏洋　马骥　 (74)专利代理机构 北京维正专利代理有限公司 11508 代理人 李鑫伟 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/039 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 (54)发明名称 一种耐刻蚀的正性光刻胶 (57)摘要 本申请属于光刻胶技术领域，具体涉及一种 耐刻蚀的正性光刻胶，包括如下重量份的各组 分：酚醛树脂100份、PAC  10‑50份、固化剂5‑30 份、溶剂450‑550份；所述正性光刻胶还包括100‑ 1000 ppm的催化剂。本申请的耐刻蚀的正性光刻 胶，通过添加固化剂和催化剂保证光刻胶膜的顺 利固化，并提高酚醛树脂的交联密度，提高光刻 胶膜的致密性，提高光刻胶膜的抗渗透能力，避 免酸分子渗透至光刻胶薄膜与基材之间，从而影 响光刻胶薄膜与基材之间的粘结力，导致光刻胶 容易开裂、脱落等。 A 4 0 3 6 2 3 4 1 1 N C CN 114326304 A 权　利　要　求