光学用聚酯保护膜及其制备方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114132038 A (43)申请公布日 2022.03.04 (21)申请号 202111009839.8 B29C 48/08 (2019.01) G02B 1/14 (2015.01) (22)申请日 2021.08.31 G02B 1/04 (2006.01) (30)优先权数据 10-2020-0112240 2020.09.03 KR (71)申请人 韩国商东丽先端素材股份有限公司 地址 韩国庆尚北道 (72)发明人 高明俊　韩承勋　金吉中　 (74)专利代理机构 北京鸿德海业知识产权代理 有限公司 11412 代理人 于未茗 (51)Int.Cl. B32B 27/36 (2006.01) B32B 27/06 (2006.01) B32B 33/00 (2006.01) B29C 48/00 (2019.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图1页 (54)发明名称 光学用聚酯保护膜及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种聚酯保护膜，更具体而言， 涉及一种光学用聚酯保护膜及其制备方法。 A 8 3 0 2 3 1 4 1 1 N C CN