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便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模

2023-05-14 10:08:35 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202211623777.4
  • 公开(公告)日:2024-09-17
  • 公开(公告)号:CN116047858A
  • 申请人:广州新锐光掩模科技有限公司
摘要:本申请提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模,涉及光掩模的技术领域,其步骤如下:在光掩模表面设置标尺,标尺以光掩模表面设置的定位线为基准,标尺每格度数的量级为微米级;蒙贴光罩护膜于光掩模的表面;通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数,得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。通过设置标尺,利用光掩模上预先设置的标尺,对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行测量,只要借助显微镜辅助即可,无需使用标注差量测基台,降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本,进而降低了光掩模的整体成本。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116047858 A (43)申请公布日 2023.05.02 (21)申请号 202211623777.4 (22)申请日 2022.12.16 (71)申请人 广州新锐光掩模科技有限公司 地址 510555 广东省广州市(中新广州知识 城)亿创街1号406房之518 (72)发明人 田正洲 葛海鸣 包忍  (74)专利代理机构 北京清大紫荆知识产权代理 有限公司 11718 专利代理师 赵然 黄贞君 (51)Int.Cl. G03F 1/44 (2012.01) G01B 5/02 (2006.01) G01D 5/26 (2006.01) G03F 1/84 (2012.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图3页 (54)发明名称 便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的 方法及光掩模 (57)摘要 本申请提供一种便捷测量光掩模上光罩护 膜蒙贴位移量的方法及光掩模,涉及光掩模的技 术领域,其步骤如下:在光掩模表面设置标尺,标 尺以光掩模表面设置的定位线为基准,标尺每格 度数的量级为微米级;蒙贴光罩护膜于光掩模的 表面;通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上 的读数,得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移 量。通过设置标尺,利用光掩模上预先设置的标 尺,对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行 测量,只要借助显微镜辅助即可,无需使用标注 差量测基台,降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所 A 需成本

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