发明

层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法

2023-06-18 07:24:33 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202210236925.0
  • 公开(公告)日:2025-04-01
  • 公开(公告)号:CN114540853A
  • 申请人:旭化成株式会社
摘要:本发明涉及层积体、电解槽及其制造方法、电极的更新方法、层积体的更新方法以及卷绕体的制造方法。一种层积体,其具有隔膜和固定于所述隔膜的表面的至少1个区域的电解用电极,所述隔膜的表面上,所述区域的比例超过0%且小于93%。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114540853 A (43)申请公布日 2022.05.27 (21)申请号 202210236925.0 (72)发明人 船川明恭 角佳典 蜂谷敏德  古池润  (22)申请日 2018.03.22 (74)专利代理机构 北京三友知识产权代理有限 (30)优先权数据 公司 11127 2017-056525 2017.03.22 JP 专利代理师 李洋 庞东成 2017-056524 2017.03.22 JP 2018-053149 2018.03.20 JP (51)Int.Cl. 2018-053217 2018.03.20 JP C25B 9/23 (2021.01) 2018-053144 2018.03.20 JP C25B 9/19 (2021.01) 2018-053231 2018.03.20 JP C25B 11/02 (2021.01) 2018-053145 2018.03.20 JP C25B 11/03 (2021.01) 2018-053139 2018.03.20 JP

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