光罩图形测量方法及其系统

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113325661 A (43)申请公布日 2021.08.31 (21)申请号 202010130478.1 (22)申请日 2020.02.28 (71)申请人 中芯国际集成电路制造（上海）有限 公司 地址 201203 上海市浦东新区中国（上海） 自由贸易试验区张江路18号 申请人 中芯国际集成电路制造（北京）有限 公司 (72)发明人 王何宁　舒强　张迎春　王占雨　 (74)专利代理机构 上海知锦知识产权代理事务 所(特殊普通合伙) 31327 代理人 高静 (51)Int.Cl. G03F 1/36(2012.01) H01L 21/66(2006.01) 权利要求书4页 说明书12页 附图5页 (54)发明名称 光罩图形测量方法及其系统 (57)摘要 一种光罩图形测量方法及其系统，方法包 括：提供设计图形以及光学邻近修正后的光罩图 形；将光罩图形沿第一方向分成多个分片，第一 方向与特征尺寸的测量方向相垂直；从多个分片 中选取待测量分片，沿第一方向与待测量分片相 邻的分别为第一分片和第二分片；采用多个测量 步进对分片进行测量，获得多个测量特征尺寸， 从所述设计图形能够获知待测量分片、第一分片 和第二分片相对应的特征尺寸的关系，将多