一种纳米锥形阵列结构及其制备方法

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(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112591707 A (43)申请公布日 2021.04.02 (21)申请号 202011482916.7 (22)申请日 2020.12.15 (71)申请人 南方科技大学 地址 518055 广东省深圳市南山区西丽学 苑大道1088号 (72)发明人 徐少林　徐康　胡劲　 (74)专利代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 潘登 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01) 权利要求书2页 说明书7页 附图4页 (54)发明名称 一种纳米锥形阵列结构及其制备方法 (57)摘要 本发明涉及一种纳米锥形阵列结构及其制 备方法，所述制备方法包括如下步骤：(1)利用超 快激光对基底进行加工，之后清洗得到中间基 底；(2)将步骤(1)得到的中间基底进行等离子体 刻蚀，得到所述纳米锥形阵列结构。本发明提供 的方法，采用超快激光在表面制备微纳结构，在 等离子体刻蚀过程中并利用微掩模效应在微纳 结构区域的增强效果，即利用现有技术中缺陷制 备了高深宽比的纳米锥阵列结构，该方法兼容性 好、制备区域灵活可控，可极大提升纳米锥阵列 结构的制备工艺精度。 A 7 0 7 1 9 5 2 1 1 N C CN 112591707 A 权　利　要　求　书