研磨盘清洁装置2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 220804639 U (45)授权公告日 2024.04.19 (21)申请号 202322593773.2 (22)申请日 2023.09.22 (73)专利权人 西安奕斯伟材料科技股份有限公 司 地址 710000 陕西省西安市高新区西沣南 路1888号1-3-029室 专利权人 西安奕斯伟硅片技术有限公司 (72)发明人 樊明溪　 (74)专利代理机构 北京银龙知识产权代理有限 公司 11243 专利代理师 姜精斌 (51)Int.Cl. B08B 3/02 (2006.01) B08B 3/08 (2006.01) B08B 13/00 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图2页 (54)实用新型名称 研磨盘清洁装置 (57)摘要 本实用新型涉及一种研磨盘清洁装置，包 括：清洁液提供结构，用于提供清洁研磨盘的高 压清洁液；喷洒结构，包括盒体，以及设置于所述 盒体内的导向部和喷头，所述喷头的一端通过弹 性软管与所述清洁液提供结构连接，所述喷头的 另一端外露于所述盒体结构以喷射高压清洁液， 所述导向部用于控制所述喷头的喷射方向。采用 高压清洁液喷洒的方式对研磨盘进行清洁，避免 了对研磨盘的损伤，且清洁更彻底，节省时间，提 高清洁效率。并且通过所述导向部的设置可以增 加清洁空间的灵活度。 U 9 3 6 4