一种聚碳酸酯基光学级保护薄膜及其制备方法与应用2025
- 申请专利号:CN202311190916.3
- 公开(公告)日:2025-04-25
- 公开(公告)号:CN117229552A
- 申请人:海南大学
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117229552 A (43)申请公布日 2023.12.15 (21)申请号 202311190916.3 C09D 7/65 (2018.01) (22)申请日 2023.09.15 (71)申请人 海南大学 地址 570228 海南省海口市人民大道58号 (72)发明人 尹学琼 杨旭冰 秦梓喻 刘钟馨 王敦 (74)专利代理机构 北京首捷专利代理有限公司 11873 专利代理师 赵红欣 (51)Int.Cl. C08J 7/04 (2020.01) G02B 1/14 (2015.01) C08L 69/00 (2006.01) C09D 133/08 (2006.01) C09D 7/61 (2018.01) 权利要求书2页 说明书11页 附图4页 (54)发明名称 一种聚碳酸酯基光学级保护薄膜及其制备 方法与应用 (57)摘要 本发明属于材料制备技术领域,具体提供了 一种聚碳酸酯基光学级保护薄膜及其制备方法。 通过以聚碳酸酯薄膜(PC)为基,以半连续乳液聚 合法制备聚丙烯酸酯(PA)乳液,并使用分散剂聚 乙烯吡咯烷酮(PVP)将纳米二氧化钛(TiO)均匀 2 分散于PA乳液中;通过表面改性技术利用旋涂法 在PC薄膜表面制备PA‑纳米T
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