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PCT发明

曝光装置、组件制造方法及平面显示器的制造方法2024

2024-03-31 07:25:02 发布于四川 0
  • 申请专利号：CN202280043478.5
  • 公开（公告）日：2024-03-29
  • 公开（公告）号：CN117795423A
  • 申请人：株式会社尼康
摘要：本发明的曝光装置(1)一面使曝光有将第一曝光部分(85A)的一部分与第二曝光部分(85B)的一部分拼接而成的第一曝光图案(85)的基板(10)沿着扫描方向移动，一面将第二曝光图案(90)重叠于第一曝光图案(85)进行曝光，其具备多个曝光模块，该多个曝光模块将第二曝光图案(90)分割曝光，多个曝光模块具有：空间光调变器，具有多个组件，并且根据第二曝光图案(90)控制多个组件；照明光学系统，对空间光调变器进行照明；及投影光学系统(84)，将根据第二曝光图案(90)所控制的空间光调变器的像向基板(10)投影，多个曝光模块的至少一个对拼接第一曝光部分(85A)的一部分与第二曝光部分(85B)的一部分而成的拼接部(85C)进行曝光。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117795423 A (43)申请公布日 2024.03.29 (21)申请号 202280043478.5 (74)专利代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 (22)申请日 2022.07.01 专利代理师 闫剑平 (30)优先权数据 (51)Int.Cl . 2021-111777 2021.07.05 JP G03F 7/20 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 G02B 26/02 (2006.01) 2023.12.18 (86)PCT国际申请的申请数据 PCT/JP2022/026497 2022.07.01 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2023/282211 JA 2023.01.12 (71)申请人 株式会社尼康 地址 日本东京都 (72)发明人 加藤正纪　 权利要求书3页 说明书18页 附图15页 (54)发明

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