一种薄膜图案形成方法2025

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117533034 A (43)申请公布日 2024.02.09 (21)申请号 202311532923.7 (22)申请日 2023.11.16 (66)本国优先权数据 202310793987.6 2023.06.30 CN (71)申请人 芯体素（杭州）科技发展有限公司 地址 310051 浙江省杭州市滨江区西兴街 道联慧街6号2-606 (72)发明人 蔡王灿　吴琪　韩东升　 (74)专利代理机构 浙江金杜智源知识产权代理 有限公司 33511 专利代理师 蒋力 (51)Int.Cl. B41M 5/00 (2006.01) H01L 21/67 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图2页 (54)发明名称 一种薄膜图案形成方法 (57)摘要 本发明涉及附加制造的方法技术领域，尤其 涉及一种薄膜图案形成方法，该方法包括如下步 骤：（S.1）：在负压的作用下，使得出料针头内的 料液稳定于出料口的步骤；（S.2）：在所述出料针 头和基板之间形成电势差，使得所述料液形成朝 向所述基板表面的泰勒锥的步骤；（S.3）：使所述 泰勒锥的尖端接触所述基板的表面、并移动所述 出料针头进行图案绘制的步骤。和现有技术相 比，本申请的技术方案可以将出料针头的移动速 度提升至500mm/s，大幅提升了工作效率，依旧能 够保障相当的薄膜图案形成效果，并且，还可以 通过设置打印方式来进一步提升打印精度，同