光学防伪元件、防伪产品和光学防伪元件的制作方法

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116100979 A (43)申请公布日 2023.05.12 (21)申请号 202111335319.6 B42D 25/40 (2014.01) B42D 25/324 (2014.01) (22)申请日 2021.11.11 (71)申请人 中钞特种防伪科技有限公司 地址 100070 北京市丰台区科学城星火路6 号 申请人 中国印钞造币集团有限公司 (72)发明人 胡春华　李欣毅　吴远启　叶东　 (74)专利代理机构 北京康信知识产权代理有限 责任公司 11240 专利代理师 唐振北 (51)Int.Cl. B42D 25/30 (2014.01) B42D 25/328 (2014.01) B42D 25/36 (2014.01) B42D 25/373 (2014.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图2页 (54)发明名称 光学防伪元件、防伪产品和光学防伪元件的 制作方法 (57)摘要 本发明提供了一种光学防伪元件、防伪产品 和光学防伪元件的制作方法。光学防伪元件，包 括基底层和光学层，光学层设置在基底层的一侧 并与基底层连接，光学层包括微结构层，微结构 层包括 ：第一区域，第一区域具有多个第一微结 构；第二区域，第二区域具有