1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 专利分类
  4. 作业/运输
发明

一种用于薄膜沉积治具的清洁方法2025

2023-11-16 07:59:19 发布于四川 1
  • 申请专利号：CN202311021410.X
  • 公开（公告）日：2025-08-26
  • 公开（公告）号：CN117046785A
  • 申请人：西安立芯光电科技有限公司
摘要：本发明属于真空沉积设备维修技术领域，涉及一种用于薄膜沉积治具的清洁方法，使用用于薄膜沉积治具的清洁装置，所述清洁装置包括真空腔体、清洁台、机械泵、分子泵、真空阀、清洁气贮罐、干燥气贮罐，真空腔体内设置清洁台，清洁台用于放置待清洁的薄膜沉积治具。包括放置待清洁的薄膜沉积治具、真空腔体抽真空、薄膜沉积治具清洁的步骤。本发明利用薄膜沉积治具与附着的薄膜之间存在应力的现象，当真空腔体达到一定的真空度后，通入清洁气体，达到附着的薄膜开裂条件，附着的薄膜脱落，达到薄膜沉积治具清洁的效果，避免了薄膜沉积治具的损伤及尺寸变化。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117046785 A (43)申请公布日 2023.11.14 (21)申请号 202311021410.X C23C 16/458 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) (22)申请日 2023.08.14 B08B 13/00 (2006.01) (71)申请人 西安立芯光电科技有限公司 B25B 11/00 (2006.01) 地址 710077 陕西省西安市高新区锦业路 F26B 21/00 (2006.01) 125号西安半导体产业园103号E3楼4 层 (72)发明人 任占强　赵小亮　崔彬　刘乾　 李青民　李喜荣　刘双涛　 (74)专利代理机构 西安智邦专利商标代理有限 公司 61211 专利代理师 康进兴 (51)Int.Cl. B08B 3/02 (2006.01) C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/50 (2006.01) 权利要求书2页 说明

最新专利

相关专利