光刻胶及其图案化的方法和显示基板的制备方法2026

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(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 118092071 A (43)申请公布日 2024.05.28 (21)申请号 202410094817.3 (22)申请日 2024.01.22 (71)申请人 惠科股份有限公司 地址 518101 广东省深圳市宝安区石岩街 道石龙社区工业二路1号惠科工业园 厂房1栋一层至三层、五至七层,6栋七 层 (72)发明人 张红印　覃耀辉　谢俊烽　 (74)专利代理机构 深圳市威世博知识产权代理 事务所(普通合伙) 44280 专利代理师 汤明娟 (51)Int.Cl. G03F 7/004 (2006.01) G03F 7/16 (2006.01) 权利要求书2页 说明书9页 附图6页 (54)发明名称 光刻胶及其图案化的方法和显示基板的制 备方法 (57)摘要 本申请提供一种光刻胶及其图案化的方法 和显示基板的制备方法。该光刻胶包括靶向磁纳 米颗粒和有机光刻胶；其中，靶向磁纳米颗粒具 有磁性，且靶向磁纳米颗粒靶向吸附并包裹有机 光刻胶，以在外部磁场作用下，使得光刻胶随靶 向磁纳米颗粒的移动而形成预设图案。该光刻胶 无需使用掩膜板进行曝光，可提高光刻胶图案的 精度。 A 1 7 0 2 9 0 8 1 1 N C CN 118092071 A 权　利　要　求　书 1