一种高集成度图案化的印刷方法及应用

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114751365 A (43)申请公布日 2022.07.15 (21)申请号 202111387165.5 (22)申请日 2021.11.22 (71)申请人 中国科学院化学研究所 地址 100190 北京市海淀区中关村北一街2 号 (72)发明人 吕文坤　乔雅丽　宋延林　 (74)专利代理机构 北京知元同创知识产权代理 事务所(普通合伙) 11535 专利代理师 刘元霞 (51)Int.Cl. B81C 1/00 (2006.01) B81B 7/04 (2006.01) B41M 5/00 (2006.01) 权利要求书3页 说明书8页 附图5页 (54)发明名称 一种高集成度图案化的印刷方法及应用 (57)摘要 本发明公开了一种高集成度图案化的印刷 方法和应用，所述方法包括：1)制备含有微结构 阵列的第二基材，并经高能辐射处理；2)将第一 基材原料溶于有机溶剂中，制备表面含有亲水基 团的第一基材；3)对步骤2)中第一基材施加应 力，使第一基材保持拉伸状态；4)将含有功能材 料的溶液加入到步骤3)中保持拉伸状态的第一 基材表面；5)将经辐射处理后的第二基材与第一 基材相叠加，使第二基材、含有功能材料的溶液 和第一基材组成“三明治”夹层结构；6)待“三明 治”夹层结构中的溶剂挥发后，再将第一基材和 第二基材分离，释放第一基材制备得到图案化阵 A 列。本发明制备方法简单，具有绿色环保，成本 5