离型力可调低硅离型剂、离型膜及制备方法
- 申请专利号:CN202310502820.X
- 公开(公告)日:2024-08-09
- 公开(公告)号:CN116554479A
- 申请人:太仓斯迪克新材料科技有限公司|||江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
专利内容
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116554479 A (43)申请公布日 2023.08.08 (21)申请号 202310502820.X C09D 7/63 (2018.01) C08J 7/04 (2020.01) (22)申请日 2023.05.06 C08L 67/02 (2006.01) (71)申请人 太仓斯迪克新材料科技有限公司 地址 215400 江苏省苏州市太仓市经济开 发区青岛西路11号1幢 申请人 江苏斯迪克新材料科技股份有限公 司 (72)发明人 金闯 陶然 黄峻 蒋晓明 王晓云 曹路 (74)专利代理机构 北京远大卓悦知识产权代理 有限公司 11369 专利代理师 徐晨 (51)Int.Cl. C08G 77/442 (2006.01) C09D 183/10 (2006.01) 权利要求书2页 说明书5页 (54)发明名称 离型力可调低硅离型剂、离型膜及制备方法 (57)摘要 本发明公开了一种离型力可调低硅离型剂、 离型膜及制备方法,该离型剂的制备方法包括以 下步骤:步骤1、制备含羟基的丙烯酸树脂;步骤 2、制备单端含有‑N=C=O官能团改性硅油;步骤