边缘进气装置、半导体工艺腔室及半导体工艺设备2024

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 117684156 A (43)申请公布日 2024.03.12 (21)申请号 202410044870.2 (22)申请日 2024.01.11 (71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司 地址 100176 北京市大兴区北京经济技术 开发区文昌大道8号 (72)发明人 伊藤正雄　林源为　 (74)专利代理机构 北京天昊联合知识产权代理 有限公司 11112 专利代理师 彭瑞欣　王婷 (51)Int.Cl. C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/52 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/04 (2006.01) 权利要求书2页 说明书10页 附图3页 (54)发明名称 边缘进气装置、半导体工艺腔室及半导体工 艺设备 (57)摘要 本发明提供一种边缘进气装置、半导体工艺 腔室及半导体工艺设备，该装置包括旋转进气组 件，呈环状，旋转进气组件能够围绕自身轴线旋 转；固定进气组件，呈环状，设置在旋转进气组件 外侧，位于旋转进气组件的外周的第一对接面与 位于固定进气组件的内周的第二对接面可相对 旋转地对接，旋转进气组件中设置有第一进气通 道，第一进气通道在第一对接面设置有第一进气 口，且沿旋转进气组件的内周设置有多个第一出 气口；固定进气组件中设置有第二进气通道，第 二进气通道在第二对接面设置有第二出气口，第 A 一进气口与第