蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法

专利内容

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113388805 A (43)申请公布日 2021.09.14 (21)申请号 202110265013.1 (22)申请日 2021.03.11 (30)优先权数据 2020-041786 2020.03.11 JP (71)申请人 株式会社日本显示器 地址 日本东京都 (72)发明人 木村辽太郎　西之原拓磨　 (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限 公司 11322 代理人 邸万杰 (51)Int.Cl. C23C 14/04 (2006.01) C23C 14/24 (2006.01) 权利要求书1页 说明书9页 附图9页 (54)发明名称 蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法 (57)摘要 本发明提供能够降低蒸镀不良的蒸镀掩模 的制造方法和蒸镀掩模。本发明的蒸镀掩模的制 造方法，蒸镀掩模具有：掩模框架，其具有由框部 或隔档部包围的空隙；第一镀层，其形成于俯视 时与空隙重叠、并且俯视时不与框部或隔档部重 叠的区域；和第二镀层，其将掩模框架和第一镀 层接合，第一镀层形成为从掩模框架向第一方向 突出，蒸镀掩模的制造方法的特征在于，包括：在 第二镀层与第一镀层的边界，将从第二镀层向第 一方向突出的突起推倒的工序。 A 5 0 8 8 8 3 3 1 1 N C CN 113388805 A 权　利　要　求　书