发明

泵盖组件及其PVD真空设备

2023-06-27 09:39:08 发布于四川 0
  • 申请专利号:CN202310222864.7
  • 公开(公告)日:2025-04-11
  • 公开(公告)号:CN116288232A
  • 申请人:株洲三一硅能技术有限公司
摘要:本发明涉及PVD技术领域,提供一种泵盖组件及其PVD真空设备。该泵盖组件,包括:泵盖本体,泵盖本体包括:第一底板,第一底板适于与反应腔室密封配合;制冷装置,制冷装置固定在第一底板,用于对反应腔室内部进行冷却;加热装置,加热装置固定在第一底板,用于对处于反应腔室内部的工件进行加热。本发明通过将制冷装置和加热装置集成固定在泵盖本体的第一底板的下方,能够随泵盖本体一同取下,提高了设备集成度,占用空间小,提高了空间利用率,可为反应腔室安装其他结构预留大量空间;当需要对加热装置和/或制冷装置进行清洁或维护等时,可以直接将泵盖组件从反应腔室上取下,以便对加热装置和/或制冷装置进行清洁或维护。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116288232 A (43)申请公布日 2023.06.23 (21)申请号 202310222864.7 (22)申请日 2023.03.09 (71)申请人 三一硅能 (株洲)有限公司 地址 412000 湖南省株洲市石峰区铜塘湾 街道铜霞路255号隆信国际1号楼518- 50室 (72)发明人 肖长彬 请求不公布姓名  请求不公布姓名  (74)专利代理机构 北京路浩知识产权代理有限 公司 11002 专利代理师 宁曼莹 (51)Int.Cl. C23C 14/56 (2006.01) C23C 14/54 (2006.01) 权利要求书1页 说明书5页 附图1页 (54)发明名称 泵盖组件及其PVD真空设备 (57)摘要 本发明涉及PVD技术领域,提供一种泵盖组 件及其PVD真空设备。该泵盖组件,包括:泵盖本 体,泵盖本体包括:第一底板,第一底板适于与反 应腔室密封配合 ;制冷装置,制冷装置固定在第 一底板,用于对反应腔室内部进行冷却;加热装 置,加热装置固定在第一底板,用于对处于反应 腔室内部的工件进行加热。本发明通过将制冷装 置和加热装置集成固定在泵盖本体的第一底板 的下方,能够随泵盖本体一同取下,提高了设备 集成度,占用空间小,提高了空间利用率,可为反 应腔室安装其他结构预留大量空间;当需要对加 热装置和/或制冷装置进行清洁或维护等时,可 A 以直接将泵

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