发明

双沉降片、圆编机及编织方法

2023-05-12 11:42:58 发布于四川 1
  • 申请专利号:CN202111423083.1
  • 公开(公告)日:2025-06-20
  • 公开(公告)号:CN114561740A
  • 申请人:株式会社福原精机制作所
摘要:本发明涉及一种双沉降片、圆编机及编织方法,即使纱线的状态、双沉降片的状态及周围的环境发生了变化,也可抑制基础编织物的表面的垫纱的突出;双沉降片由第一沉降片及第二沉降片所构成,其基部皆插入圆编机的同一个沉降片沟槽;第一沉降片具有支持垫纱、面纱及地纱的上支持部及比上支持部位于下方的下支持部;第二沉降片具有可插入垫纱的纱圈的插入部、及推压垫纱及面纱的第二沉降片作用部;插入部的上端面相比于上支持部的上端面配置于下方且相比于下支持部的上端面配置于上方。

专利内容

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114561740 A (43)申请公布日 2022.05.31 (21)申请号 202111423083.1 (22)申请日 2021.11.26 (30)优先权数据 2020-197628 2020.11.27 JP (71)申请人 株式会社福原精机制作所 地址 日本兵库县神户市西区井吹台东町七 丁目3番5号 (72)发明人 柴田隆夫 江西克 西川和宏  (74)专利代理机构 北京戈程知识产权代理有限 公司 11314 专利代理师 程伟 王锦阳 (51)Int.Cl. D04B 15/06 (2006.01) D04B 15/58 (2006.01) 权利要求书2页 说明书15页 附图11页 (54)发明名称 双沈降片、圆编机及编织方法 (57)摘要 本发明涉及一种双沈降片、圆编机及编织方 法,即使纱线的状态、双沈降片的状态及周围的 环境发生了变化,也可抑制基础编织物的表面的 垫纱的突出;双沈降片由第一沈降片及第二沈降 片所构成,其基部皆插入圆编机的同一个沈降片 沟槽;第一沈降片具有支持垫纱、面纱及地纱的 上支持部及比上支持部位于下方的下支持部;第 二沈降片具有可插入垫纱的纱圈的插入部、及推 压垫纱及面纱的第二沈降片作用部;插入部的上 端面相比于上支持部的上端面配置于下方且相 比于下支持部的上端面配置于上方。 A 0 4 7 1 6 5 4 1 1 N C CN 114561740

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