原创力.专利
用于通过PECVD进行Si间隙填充的方法
- 申请专利号：CN201980023731.9
- 公开（公告）日：2025-04-11
- 公开（公告）号：CN112335032A
- 申请人：应用材料公司
专利内容
(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112335032 A (43)申请公布日 2021.02.05 (21)申请号 201980023731.9 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公 司 31100 (22)申请日 2019.03.07 代理人 侯颖媖 张鑫 (30)优先权数据 (51)Int.Cl. 62/640,853 2018.03.09 US H01L 21/768 (2006.01) (85)PCT国际申请进入国家阶段日 H01L 21/02 (2006.01) 2020.09.29 H01L 21/3065 (2006.01) (86)PCT国际申请的申请数据 H01L 21/311 (2006.01) PCT/US2019/021205 2019.03.07 (87)PCT国际申请的公布数据 WO2019/173624 EN 2019.09.12 (7
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